《表1 旋压钼坩埚工艺参数》
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根据上一章的模拟结果来看，试验所用的工艺参数如表1所示。
| 图表编号 | XD0084303300 严禁用于非法目的 |
|---|---|
| 绘制时间 | 2019.08.01 |
| 作者 | 李卫岩、邹永刚、徐恒秋、张心明、马晓辉 |
| 绘制单位 | 长春理工大学高功率半导体激光国家重点实验室、长春理工大学高功率半导体激光国家重点实验室、中国兵器工业第五五研究所旋压工程部、长春理工大学机电工程学院、长春理工大学高功率半导体激光国家重点实验室 |
| 更多格式 | 高清、无水印（增值服务） |
根据上一章的模拟结果来看，试验所用的工艺参数如表1所示。
| 图表编号 | XD0084303300 严禁用于非法目的 |
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| 绘制时间 | 2019.08.01 |
| 作者 | 李卫岩、邹永刚、徐恒秋、张心明、马晓辉 |
| 绘制单位 | 长春理工大学高功率半导体激光国家重点实验室、长春理工大学高功率半导体激光国家重点实验室、中国兵器工业第五五研究所旋压工程部、长春理工大学机电工程学院、长春理工大学高功率半导体激光国家重点实验室 |
| 更多格式 | 高清、无水印（增值服务） |
