《表3 成分分析以及比电阻测试》
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碳质还原剂中固定碳、水分、挥发份、灰分以及灰分中杂质含量是影响工业硅冶炼生产过程的重要指标参数，复合还原剂成分分析和比电阻测试如表3所示。
| 图表编号 | XD0080863300 严禁用于非法目的 |
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| 绘制时间 | 2019.06.25 |
| 作者 | 陈正杰、周世超、马文会、丁卫民、林祖德 |
| 绘制单位 | 昆明理工大学冶金与能源工程学院、昆明理工大学复杂有色金属资源清洁利用实验室、昆明理工大学冶金与能源工程学院、昆明理工大学复杂有色金属资源清洁利用实验室、昆明理工大学冶金与能源工程学院、昆明理工大学复杂有色金属资源清洁利用实验室、怒江宏盛锦盟硅业有限公司、怒江宏盛锦盟硅业有限公司 |
| 更多格式 | 高清、无水印（增值服务） |
