《表3 CMU PIE和AR人脸库上不同方法的运行时间》
表3列出了CMU PIE、AR人脸库在维数为100时各方法的运行时间,从表3来看,因为要求解L1范数,所以本文方法、LRR_SRC及SRC方法都需要花费较多时间,而LRC和NN所需时间较少。相比于LRR_SRC方法,本文方法多了学习低秩投影矩阵的过程,由于学习低秩投影矩阵有解析解,所以该学习过程速度很快,计算时间没有明显增加。虽然相对其他方法,本文方法需要较多时间,但时间主要花费在对训练样本的低秩恢复和测试样本的稀疏分解,其中训练样本的低秩恢复可以离线计算。此外随着计算能力的提高,相对于算法性能的提升,计算代价可能会成为次要问题,所以本方法还是具有一定的实用性。
图表编号 | XD0069514500 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2019.06.18 |
作者 | 蔡晓云、尹贺峰 |
绘制单位 | 江南大学物联网工程学院、镇江高等专科学校、江南大学物联网工程学院 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |