《表2 MoS2/C复合薄膜成分和力学性能》
3) 沉积MoS2/C复合薄膜。关闭高HiPIMS电源,打开DCMS溅射源,时间为180 min。阴极靶材选用石墨靶材,并将若干2.5 cm×2.5 cm MoS2薄片贴在靶材磁控溅射轨道上。通过改变MoS2薄片的数量调控薄膜中Mo、S的含量。薄膜总厚度控制在2,MoS2片数分别为2、4、6及8(对应样品分别为 (Mo S2)16C84、(Mo S2)34C66、(Mo S2)45C55和(Mo S2)55C45) ,实验参数和薄膜成分如表1、表2所示。
图表编号 | XD0052123400 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2019.06.20 |
作者 | 康皓、郭鹏、蔡胜、李晓伟、段香梅、汪爱英、柯培玲 |
绘制单位 | 宁波大学物理科学与技术学院、中国科学院宁波材料技术与工程研究所中国科学院海洋新材料与应用技术重点实验室浙江省海洋材料与防护技术重点实验室、中国科学院宁波材料技术与工程研究所中国科学院海洋新材料与应用技术重点实验室浙江省海洋材料与防护技术重点实验室、宁波大学物理科学与技术学院、中国科学院宁波材料技术与工程研究所中国科学院海洋新材料与应用技术重点实验室浙江省海洋材料与防护技术重点实验室、韩国科学技术研究院计算科学研究中心、宁波大学物理科学与技术学院、中国科学院宁波材料技术与工程研究所中国科学院海洋新材料与应用 |
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