《表3 不同R[n (TEAOH) ∶n (DEA) ]制备样品的元素组成》

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《双模板剂法SAPO-34分子筛的合成及其MTO催化性能调变》

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图4（b）是不同样品的BJH孔径分布图，为避免“假峰”的干扰，孔径分布按照吸附分支计算[21]。由图可见，除R=∞之外，其余4个样品均含有明显的10nm左右的介孔，与等温吸附线所示信息一致。表2列出了各样品10nm处的介孔孔容:R=4.9>R=7.0>R=2.0>R=0.5>R=∞。这个顺序与晶粒尺寸的排序正好相反，由此推断，10nm处的介孔可能与晶粒的堆积有关，晶粒越小，堆积量越多，因此10nm处介孔含量越高。另外，图4（b）中还显示R=2.0和R=7.0样品具有少量的2～3nm小介孔存在，这可能与这两个样品的晶体形貌有关。图3中R=2.0和R=7.0两样品的高倍率电镜图片中显示，两样品表面呈层状堆错形貌，并非单一的完整晶粒，而是多个小晶体团聚而成的大晶粒，而2～3nm的介孔推测是小晶体之间的堆积孔，对于R=0.5、R=4.9和R=∞三个样品，晶型更偏向于是完整的单个晶粒，因此没有明显的小介孔出现。