《表4 电化学腐蚀试验腐蚀电位和腐蚀电流密度数值》

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《电镀硬铬工艺原理及铬层组织与性能浅析》

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与其他电镀铬工艺对比，经电化学腐蚀试验后，测得铬层腐蚀电位、腐蚀电流密度数值如表4所示[15]。不难看出，ND-331微裂纹镀铬的腐蚀电位为-0.658V、最正，腐蚀电流密度为0.141 A/dm2、最小，说明ND-331铬层耐蚀性能最好。这是因为裂纹的宽度越小，裂纹越细，腐蚀介质越难进入镀层内部，可减缓腐蚀发生的速率，进而降低了腐蚀电流密度。同时，腐蚀介质进入基体的路径增大，进入基体的概率降低，从而耐腐蚀性增强。