《表5 溶液一次引发处理后再基质引发对三倍体西瓜出苗率和脱帽率的影响》

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《无籽西瓜“四免”育苗技术》

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2018年8月20日至9月9日溶液引发处理后再进行基质引发试验，即种子先用溶液一次引发12 h（小时），再用含水量为29%的基质（草炭∶珍珠岩∶蛭石=3 V∶1 V∶1 V）引发，每处理20粒种子，3次重复，以不做任何引发处理为对照。播种方向为种嘴向上90°。试验结果表明（表5），采用1/4 MS培养基溶液或0.2%硝酸钾溶液一次引发后再进行基质引发可大大提高免破壳种子的出苗率。