《表2 不同6H-SiC晶体TAS响应测量和拟合得到的光物理参数》
式中:τn,σn,Nn分别表示响应能态下的载流子寿命、吸收截面和载流子浓度;n型和SI 6H-SiC晶片测得的载流子寿命和最大吸收截面σm见表2。6H-SiC的载流子吸收截面比宽带隙半导体GaN(GaN的吸收截面数据)大了一个量级以上[24]。n型和SI 6H-SiC均获得三个载流子寿命。如图5所示,紫外抽运光(3.4eV)最初激发产生的非平衡载流子位于导带Ec+0.5eV处,有效质量大于导带底部[25]。因此,在图5中观察到的约5ps吸收信号的建立时间反映了非平衡载流子弛豫到导带底部(M-能谷)的过程[图5中的过程(1)]。对应的最快时间常数τ1均为2~3ps,这与飞秒光谱脉冲激发载流子之后半导体中载流子-载流子热化和载流子-声子相互作用的时间响应一致[26-27]。
图表编号 | XD0034846400 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2019.03.25 |
作者 | 聂媱、王友云、吴雪琴、方宇 |
绘制单位 | 苏州科技大学数理学院、苏州科技大学数理学院、苏州科技大学数理学院、苏州科技大学数理学院 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |