《表2 加入有机硅抑制剂和无机盐抑制剂前后Na-蒙脱石层间钠离子和水分子的自扩散系数》
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《甲基硅酸钾页岩抑制剂抑制蒙脱石水化机理的分子模拟》
从式（1）可以看出，自扩散系数为均方位移曲线斜率的1/6。加入甲基硅酸钾、甲基硅酸钠、KCl、NaCl前后蒙脱石层间Na+和水分子的自扩散系数如表2所示。
| 图表编号 | XD0034389000 严禁用于非法目的 |
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| 绘制时间 | 2019.01.25 |
| 作者 | 苏俊霖、罗亚飞、张勇 |
| 绘制单位 | 西南石油大学油气藏地质与开发工程国家重点实验室石油与天然气工程学院、西南石油大学油气藏地质与开发工程国家重点实验室石油与天然气工程学院、四川职业技术学院计科系 |
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