《表1 中程与远程杂散光比例设置》

  提示：宽带有限、当前游客访问压缩模式

本系列图表出处文件名：随高清版一同展现

《不同杂散光模型对光刻掩膜特征尺寸影响研究》

1. 获取 高清版本忘记账户？点击这里登录

1. 下载图表忘记账户？点击这里登录

采用本文模型，给整个系统加入9%的杂散光总量。将表1中对应比例的杂散光代入到改进的杂散光模型中，这样就可以得到引入杂散光后成像光强的分布。以表1中序号一的情况为例，图6a显示的是加入杂散光之后，单线条90 nm特征尺寸的成像强度分布，图6b显示的是引入杂散光和没有引入杂散光时沿竖直坐标257刻度线分布扫描的强度分布。从图6中可以看到，引入杂散光后整体强度变大，分布也发生了变化，CD边缘处的强度变化最大。