《表1 SiBCN陶瓷和SiC陶瓷氧化动力学常数》
μm2/h
对陶瓷进行氧化动力学曲线拟合。其中:y为氧化层厚度;t为氧化时间;Kp为氧化动力学常数[13]。拟合结果如图7,两种陶瓷在1 200℃和1 400℃下均能满足抛物线关系,说明其氧化控速环节为氧在氧化层中的扩散,氧化动力学常数见表1。
图表编号 | XD0031101000 严禁用于非法目的 |
---|---|
绘制时间 | 2019.04.01 |
作者 | 许艺芬、胡继东、陈治宇、史运华、陶孟、冯志海 |
绘制单位 | 航天材料及工艺研究所先进功能复合材料技术重点实验室、航天材料及工艺研究所先进功能复合材料技术重点实验室、航天材料及工艺研究所先进功能复合材料技术重点实验室、航天材料及工艺研究所先进功能复合材料技术重点实验室、航天材料及工艺研究所先进功能复合材料技术重点实验室、航天材料及工艺研究所先进功能复合材料技术重点实验室 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |