《表2 新型钝化离子吸附剂的金属杂质脱除性能》

  提示：宽带有限、当前游客访问压缩模式

本系列图表出处文件名：随高清版一同展现

《高纯电子级四氟化硅中恒沸物及金属杂质的去除》

1. 获取 高清版本忘记账户？点击这里登录

1. 下载图表忘记账户？点击这里登录

注:1) 脱除后总金属离子浓度共包括19种:Ag、Al、As、Au、Bi、Ca、Co、Cr、Cu、Fe、K、Mg、Mn、Na、Ni、Pb、Sb、Sr、Zn。

笔者对吸附剂采用了气体毒害、表面载体涂覆和退火焙烧3种方法进行钝化处理，以筛选出较优的吸附剂钝化方法。其中吸附剂采用商用的4A型分子筛，当不进行钝化处理操作时，含有金属杂质的四氟化硅通入4A型分子筛，会促使1200×10-6以上的四氟化硅分解。其中，气体毒害钝化法是采用SO2气体对吸附剂进行200℃、24 h的钝化处理。表面载体涂覆法是在吸附剂造粒定型后，通过喷雾干燥手段对吸附剂喷射一定量的二氧化硅原粉，使孔道内的极性降低。退火焙烧钝化法是将吸附剂置入高温马弗炉，通入空气在1200℃高温焙烧24 h后，缓慢退火至室温制备得到。高温退火可以使吸附剂晶体缺陷降低，晶型结构更规整，即吸附剂孔道表面的极性官能团会部分渗入到吸附剂主体。钝化后的3种吸附剂经过评价后其金属离子脱除性能如表2所示。