《表2 Se掺杂完美Ge Te不同取代位置的形成能Table 2 Formation energy of Se doping at different substitution positions i

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《硒掺杂锗碲相变存储材料的第一性原理研究》


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本节研究了Se掺杂Ge Te完美晶体。当掺杂Se原子时,可能的占位情况有:取代Ge原子、取代Te原子或占据间隙位置。由于Se间隙原子造成较大的晶格畸变,具有较高形成能,故不作比较。计算得到不同取代位置的形成能Ef如表2所示。