《表2 InP中横向与纵向扩散深度的关系Table 2 Relationship between lateral and vertical diffusion depths in InP》
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《用刻蚀坑方法抑制平面型InGaAs/InP盖革模式APD的边缘击穿》
通过闭管扩散的方法向已光刻刻蚀窗口的帽层InP中扩散Zn杂质,扫描电子显微镜(Scanning Electron Microscope,SEM)观察可发现Zn扩散区和非扩散区呈现不同的颜色,如图3,以方便确定Zn侧向扩散距离H1.侧向扩散距离H1和垂直扩散深度H2的比值为侧向扩散系数,其值见表2.侧向扩散系数分布范围为0.6~0.85,其均值为0.72,可见Zn的侧向扩散系数在0.7左右.
图表编号 | XD0023378300 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2018.05.01 |
作者 | 侯丽丽、韩勤、李彬、王帅、叶焓 |
绘制单位 | 中国科学院半导体研究所集成光电子学国家重点实验室、中国科学院半导体研究所集成光电子学国家重点实验室、中国科学院大学电子电气与通信工程学院、中国电子科技集团公司第四十四研究所化合物半导体光电子事业部、中国科学院半导体研究所集成光电子学国家重点实验室、中国科学院半导体研究所集成光电子学国家重点实验室 |
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