《表1 碳钛网电极和碳化硅/碳钛网电极的比表面积、平均孔径与孔体积》
通过N2物理吸脱附实验对材料的孔径与比表面积进行研究。图2为碳钛网电极和碳化硅/碳钛网电极的孔径分布与吸附等温线,两种电极的吸附等温线都属于IV型,并且都有H4型滞后环,这说明电极材料之中均具有狭缝结构。孔径分布图显示电极碳材料都具有介孔。在表1中列出了两种电极的比表面积、平均孔径以及孔体积的测定结果,碳化硅掺杂后,电极材料孔体积增大了10.9%,比表面积增大4.5%,与SEM的结果相一致。这可能会增加电极与反应物的接触面积,促进离子在电极表面的吸附,提高反应速率。
图表编号 | XD00227912100 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2020.10.01 |
作者 | 高健、权昆、陈振、胡璟璐、章哲、万春香、马伟 |
绘制单位 | 大连理工大学化工学院、杭州华成设计研究院有限公司、大连理工大学化工学院、大连理工大学化工学院、大连理工大学化工学院、大连理工大学化工学院、大连理工大学化工学院 |
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