《表1 微弧氧化电参数设置》
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《K_2ZrF_6含量对ZrH_(1.8)表面微弧氧化阻氢膜层的影响》
实验采用西安天奥新材料科技有限公司生产的T-MAO-B30微弧氧化设备,该设备由变压器,微弧氧化电源,电解液搅拌系统和冷却循环水系统组成。以不锈钢槽壁为阴极,用铝丝将Zr H1.8试样固定,然后将其放入电解液作为阳极进行微弧氧化实验,利用冷却水循环系统将电解液的温度控制在25℃以下。采用恒压模式,电流随反应自动调节,具体实验参数如表1所示。电解液中各组分含量分别为:Na5P3O10(18 g·L-1),KOH(1.5 g·L-1),Na2EDTA(2 g·L-1),添加剂K2Zr F6含量分别为:0,2,4,6和8 g·L-1。将微弧氧化处理后的试样立即放在蒸馏水中冲洗并进行干燥。
图表编号 | XD00218685900 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2021.01.01 |
作者 | 杜培、闫淑芳、陈伟东、李世江、杨少辉 |
绘制单位 | 内蒙古工业大学材料科学与工程学院、内蒙古工业大学材料科学与工程学院、内蒙古自治区薄膜与涂层重点实验室、内蒙古工业大学材料科学与工程学院、内蒙古自治区薄膜与涂层重点实验室、内蒙古工业大学材料科学与工程学院、内蒙古工业大学材料科学与工程学院 |
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