《表1 热处理对Si Cr OxNy涂层光学性能的影响》

  提示：宽带有限、当前游客访问压缩模式

本系列图表出处文件名：随高清版一同展现

《SiCrO_xN_y选择性吸收涂层制备及性能研究》

1. 获取 高清版本忘记账户？点击这里登录

1. 下载图表忘记账户？点击这里登录

太阳光谱选择性吸收涂层的热稳定性是一个评估涂层寿命的重要指标。为了考察Si Cr OxNy涂层的热稳定性，对涂层做了大气环境下热处理试验，热处理温度为300℃，保温200 h。热处理前后涂层光学性能变化如表1所示，热处理后涂层吸收比小幅下降，但幅度不超1%；涂层发射比在热处理后明显上升，从0.07上升至0.09以上，从而导致α/ε从13.4降至约10。可见热处理后涂层光学性能出现一定程度衰减，尤其是发射比出现明显上升。