《表2 ω(Si O2)变化时样品εr和tanδ变化趋势》
由表2可以看出,随着nano-Si O2质量分数ω(Si O2)的增加,εr和tanδ呈先减小后增大趋势,并都在ω(Si O2)=3%时达到最小值,降幅分别为14.7%和19.3%。分析认为,在ω(Si O2)在3%以下时,随其增加会引入更多界面层,Si O2表面的大量官能团与环氧树脂基体通过化学键紧密连接,增强了Si O2与环氧树脂基体之间的相互作用,使得在电场作用下,界面区域中环氧树脂分子链发生转向难度加大,抑制材料极化,所以εr、tanδ呈减小趋势。在ω(Si O2)=3%以上时,随着引入界面层的增加,界面区域开始重叠,在重叠区域载流子的束缚较弱,使其运动速度变快,同时,由于纳米颗粒在质量分数为3%以上时逐渐发生团聚,减弱了Si O2与环氧树脂基体之间的相互作用,使得εr、tanδ呈增大趋势。
图表编号 | XD00208789300 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2020.12.20 |
作者 | 曹春诚、李文博、林海涛、程显、卓远、田小倩 |
绘制单位 | 国网内蒙古东部电力有限公司呼伦贝尔供电公司、郑州大学电气工程学院、河南省输配电装备与电气绝缘工程技术研究中心、国网内蒙古东部电力有限公司呼伦贝尔供电公司、郑州大学电气工程学院、河南省输配电装备与电气绝缘工程技术研究中心、郑州大学电气工程学院、河南省输配电装备与电气绝缘工程技术研究中心、郑州大学电气工程学院、河南省输配电装备与电气绝缘工程技术研究中心 |
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