《表6 孔隙率模型方差分析》

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《基于响应曲面法压铸用Al_2O_3-40%TiO_2涂层制备工艺研究》

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孔隙率的方差分析中，试验选取的电压U、电流I和喷距d在二次模型中的p值分别为0.021 6、0.008 7和0.049 5，如表6所示。这说明I的单因素反应非常显著，U和d的单因素反应比较显著。对于交互影响而言，U和d的交互因子系数的F值最大，为9.05，且p值为0.029 8，小于0.05，说明影响显著；U和I的交互因子系数的F值为3.53，且p值为0.118 9，大于0.1，影响不显著；I和d的交互因子系数的F值为0.75，且p值为0.426 7，大于0.1，影响不显著；同理可知二次项中，喷距d二次项的影响不显著。因此，可以优化式（2），去掉方程中的不显著项，即U×I、I×d和d2三项。