《表3 应用验证的两种抛光工艺实验参数》
对图8中的试件进行7个周期的应用抛光实验。为了提升抛光效率,前3个抛光周期为粗抛,剩下4个周期进行精抛,这两种抛光工艺参数如表3所示。实验采用光栅型抛光轨迹,采用结构光进行检测加工后的面形数据。
图表编号 | XD00197694600 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2020.12.10 |
作者 | 黄智、周涛、吴湘、刘海涛、万勇健、郑晓 |
绘制单位 | 电子科技大学机械与电气工程学院、电子科技大学机械与电气工程学院、电子科技大学机械与电气工程学院、中国科学院光电技术研究所、中国科学院光电技术研究所、中国科学院光电技术研究所、中国科学院光电技术研究所 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |