《表1 各采样点信息:大径厚比深拱形光学元件高抛变形抑制方法》
按照表1列出的3组工艺参数,采用韩国Kwangjin公司KJSC–3.0高速抛光机对K9材料、径厚比26、球心角123°的深拱形光学元件(图2)进行抛光。抛光后,采用激光干涉仪测量面形精度,结果如图3和图4所示。根据测量结果,表2列出了凹凸球面在3组不同工艺参数下的抛光变形程度。通常依据Preston方程和面形误差,通过调整工艺参数,改变抛光表面各点的压力和相对速度,进而调整相对去除速率,能够提高面形精度,但对于这种大径厚比深矢高光学零件,加工诱导变形对面形精度影响很大,单纯调整工艺参数很难消除变形造成的面形误差。
图表编号 | XD00193889200 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2020.12.15 |
作者 | 张昊、沈羿、王朋 |
绘制单位 | 天津津航技术物理研究所、天津津航技术物理研究所、天津津航技术物理研究所 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |