《表1 制备梯度纳米结构材料的方法比较》

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《表面纳米化技术制备梯度纳米结构金属材料的研究进展》

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制备大尺寸、结构致密、无表面污染的梯度纳米结构材料，是研究其优异性能，构建微观结构与性能之间关系的前提与基础保障。自表面纳米化的概念提出以来，相继开发了多种制备梯度纳米结构材料的方法，根据工艺制备的基本原理，可以将制备方法大致分为“自上而下”（Top-down)[19]和“自下而上”（Bottom-up)[19-20]2类。“自上而下”方法主要有SMAT[8-9]、SMGT[10-11]等，其是通过塑性变形的方式在材料内部引入大量位错等微观结构缺陷，形成位错界面，将原始粗大晶粒分割为多个细小的晶粒。“自下而上”方法是通过物理或化学的方法，将原子逐个、逐层堆垛形成晶体材料，包括电化学沉积法（Electrodeposition，ED）、物理气相沉积法（Physical Vapor Deposition，PVD）、化学气相沉积法（Chemical Vapor Deposition，CVD）、磁控溅射法（Magnetron Sputtering，MS)[2，4，21]等。表面纳米化工业应用中要求制备的材料结构致密、无表面缺陷。表1总结了几种制备无缺陷且结构致密梯度纳米结构金属材料的常用方法。