《表1 Ti70-xTa15Zr15Fex(x=0.3、0.6、1.0)薄膜的实际成分》

  提示：宽带有限、当前游客访问压缩模式

本系列图表出处文件名：随高清版一同展现

《Ti_(70-x)Ta_(15)Zr_(15)Fe_x(x=0.3、0.6、1.0)形状记忆合金薄膜的马氏体相变与阻尼行为》

1. 获取 高清版本忘记账户？点击这里登录

1. 下载图表忘记账户？点击这里登录

使用ATC-1800F直流磁控溅射仪制备薄膜，靶材和衬底均垂直放置于真空腔体中，靶基距为75 mm，衬底为单晶Si O2，溅射基底温度为室温，腔内本体真空度小于1×10-4Pa，工作气压0.15 Pa，溅射功率为200 W，溅射时间为120 min，最终可获得厚度约为6μm的Ti70-xTa15Zr15Fex（x=0.3、0.6、1.0）合金薄膜，其实际成分列于表1中。