《表2 8道次ECAP后两种路径下的横截面上各测试点的硬度分布(HV)》

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《新型B路径的等通道转角挤压工艺》

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等通道转角挤压所累积的等效应变的大小及其均匀性会直接影响晶粒的细化效果及其均匀性，进而影响力学性能[17]。因此，本文通过硬度测试的方法来研究两种路径下试件不同部位的变形剧烈程度。如图10a所示，测试分别经过两种路径、4道次挤压后试样横截面上的A、B、C、D和E这5个点的硬度值，并且计算这5个点硬度值的标准差和平均值，其结果如表2和图10b所示。结果表明:两种路径下的硬度平均值大小相当，但新型B路径下的硬度标准差更小。证明经过4道次后，两种路径的变形剧烈程度相当，但新型B路径的变形更加均匀，这验证了2.2和2.3节中的结论。