《表1 Fe浓度测试样品取样位置》
InP晶体制备完成后,通过纵向切割获得晶体的纵向晶片。首先采用非接触式高阻测试仪对整个晶片电阻率进行测试,测试设备为SemiMap公司的COREMA-WT型测试仪;然后在径向和轴向上分别进行取样,取样位置如表1和表2所示,取样面积为10 mm×10 mm。表1样品采用ICP-MS测量分析晶体内轴向和径向上的Fe浓度,测试设备为Varian公司的725-ES型测试仪;表2样品采用GDMS测量分析晶体内非故意掺杂的全元素杂质浓度,测试设备为Nu公司的Astrum型测试仪。
图表编号 | XD00183300600 严禁用于非法目的 |
---|---|
绘制时间 | 2020.08.15 |
作者 | 王阳、孙聂枫、李晓岚、王书杰、邵会民、史艳磊、付莉杰 |
绘制单位 | 中国电子科技集团公司第十三研究所、中国电子科技集团公司第十三研究所、中国电子科技南湖研究院、中国电子科技集团公司第十三研究所、中国电子科技集团公司第十三研究所、中国电子科技南湖研究院、中国电子科技集团公司第十三研究所、中国电子科技集团公司第十三研究所、中国电子科技集团公司第十三研究所 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |