《表1 Ni-Cr-P镀层在0.5 mol·L-1硫酸溶液中的极化曲线和EIS拟合参数》

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《Ni-Cr-P化学镀层的制备与电化学腐蚀行为》

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图2a为在不同Cr Cl3浓度的镀液中所制备NiCr-P镀层在0.5 mol·L-1硫酸溶液中的极化曲线，表1为图2的极化曲线和EIS拟合参数。由图2a和表1可以看出，CrCl3浓度对镀层的自腐蚀电位有影响，CrCl3浓度为20 g·L-1时，所制备的Ni-Cr-P镀层的自腐蚀电位（Ecorr）较负，其腐蚀电流密度（Icorr）较大；而在其他浓度下所制备Ni-Cr-P镀层的自腐蚀电位相对较正并且相差不大，腐蚀电流密度也相差不大。当CrCl3浓度为5 g·L-1时，所制备镀层的腐蚀电流密度较小，为6.971μA·cm-2。由于极化电阻（Rp）与腐蚀电流密度成反比，此时对应的极化电阻较大，为6019Ω·cm2。表明此镀层具有较好的耐蚀性能，这可能与在该条件下Cr含量相对较高有关。