《表4 有机物处理前后各项对比》
蚀刻液中的有机物在整个制备过程中会在水洗过滤和煅烧等流程中去除部分,但仍有大量存在氧化铜中。因此,需要在来源蚀刻液中进行有效去除。在蚀刻液中加入XXX氧化剂40 mg/L,搅拌充分氧化1 h,然后再用活性炭6 g/L过滤,结果发现蚀刻液中的有机物的质量能去除75%以上,剩余部分再经水洗等,几乎可以全部去除。按照此工艺流程(酸性蚀刻液→氧化剂氧化+活性炭过滤→加碱反应生成Cu (OH)2→CuO→除杂→干燥) 制备出的氧化铜金属和非金属杂质含量极低,光亮剂几乎不下降,EVF电镀填孔凹陷都小于5μm,见表4。
图表编号 | XD0016951100 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2018.11.18 |
作者 | 周华梅、陈立高、付海涛 |
绘制单位 | 上海美维科技有限公司研发部、上海美维科技有限公司研发部、上海美维科技有限公司研发部 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |