《表3 蒸馏膜涂膜液中各成分的比例》

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《g-C_3N_4基PVDF蒸馏膜的制备及性能研究》

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为制备g-C3N4，需将一定量的脲于放入马弗炉加热至550℃煅烧4 h，产物取出后研磨成粉末待用。为了制备PVDF膜，将质量分数为12%的PVDF、5%的Li Cl、2%的去离子水和不同量的g-C3N4粉末均匀混合在一定量的DMAc中于60℃的水浴条件下机械搅拌24 h，随后将其转入60℃烘箱中静置脱气12 h，得到PVDF膜的涂膜液，其配方如表3所示。