《表4 育苗期间基质pH和EC值》
栽培过程中各处理组基质的pH和EC值变化情况如表4所示。栽培第20天,基质pH随含硼高吸水性树脂添加量的增加而增加,CK组与T1、T2、T3和T4组之间差异性显著。栽培第25天,各组基质pH与含硼高吸水性树脂的添加量之间无明显的规律性关系,CK和T1间无显著性差异,T2、T3和T4组间无显著性差异,CK和T1这2组与T2、T3和T4这3组间存在显著性差异。栽培第30天,基质pH随含硼高吸水性树脂添加量的增加而逐渐增大,T2组基质pH平均值为6.52,是各处理组中最大值。栽培基质EC值随含硼高吸水性树脂添加量的增加逐渐增大。含硼高吸水性树脂具有良好的保水保肥性能,含硼高吸水性树脂添加量越多,吸收存贮的营养液越多,导致基质EC值增大。
图表编号 | XD00167808700 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2020.07.01 |
作者 | 李雪嫄、王宇欣、王平智、封玲 |
绘制单位 | 中国农业大学水利与土木工程学院、中国农业大学水利与土木工程学院、中国农业大学水利与土木工程学院、中国农业大学水利与土木工程学院 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |