《表3 环境规制对企业研发的影响(广延边际)》
注:采用多项Logit回归。被解释变量R&Dstate(t-1=0,t=1)表示上期不研发当期研发,即进入研发;R&Dstate(t-1=1,t=0)表示上期研发当期不研发,即退出研发。其中的D表示对变量的差分,回归中通过差分控制了企业固定效应和时间固定效应,括号中为标准误,***、**、*分别表示显著性水
第七,安慰剂检验。为了进一步检验实证结果的稳健性,将环境规制变量和技术距离变量打乱,重新随机分配给各个省份和企业。即各个省份的SO2排放总量控制指标随机重新匹配给各个省份,各个企业的TFP随机重新匹配给各个企业,重复表2和表3的回归。表6列出了回归结果。当随机匹配核心解释变量后,交乘项的系数在各列中均不显著,即随机的匹配并不会带来和前面同样的结果。环境规制变量ER除在第3列的结果中显著之外,其他各列中均不显著。第3列环境规制的系数之所以显著,可能是因为绝大部分省份的SO2排放总量控制指标都大于0,即使随机匹配,只要环境规制会增加企业退出研发的概率,该系数也仍然是显著的。
图表编号 | XD00167160300 严禁用于非法目的 |
---|---|
绘制时间 | 2020.06.25 |
作者 | 金晓雨、宋嘉颖 |
绘制单位 | 重庆理工大学外国语学院 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |