《表1 SiCf/Ti65复合材料在不同热暴露状态下的界面反应层厚度》

《表1 SiCf/Ti65复合材料在不同热暴露状态下的界面反应层厚度》   提示:宽带有限、当前游客访问压缩模式
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《SiC_f/Ti65复合材料界面反应与基体相变机理》


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(μm)

利用SEM对SiCf/Ti65复合材料不同热暴露状态的界面反应层厚度(图11所示)进行测量,结果列于表1中,据此描绘出了x-t1/2关系曲线,如图12所示。可见,650、750和800℃热暴露曲线均呈现出直线特征,而900℃热暴露曲线则呈现双直线特征,且界面反应层长大速率常数更大,这是由于在900℃以下温度热暴露全过程以及900℃热暴露50 h之前,复合材料中纤维仍有残余未消耗的C涂层保护,而当900℃、50 h之后,纤维C涂层完全耗尽,界面反应加速[30],故长大速率常数明显增大。对650、750、800和900℃(900℃、50 h之前)热暴露的x-t1/2曲线进行线性拟合后,计算得到的k值分别为0、3.86×10-10、9.37×10-10和16.60×10-10m/s1/2,对比可知,在C涂层未耗尽前,随着热暴露温度的升高,直线斜率k增大,界面反应加剧,表明随环境温度升高复合材料界面稳定性下降。另外,在650℃时k值为0,意味着SiCf/Ti65复合材料在此温度以下界面稳定性良好,可长期稳定服役。