《表1 界面层材料的带隙(Eg)、VB/HOMO能级、CB/LUMO能级、费米能级(EF)和薄膜粗糙度(Rq)》
a括号内表示界面层材料测试时的基底.
中间层通常由若干种界面层材料组成,包括空穴传输层材料和电子传输层材料.按照材料种类又主要包括有机材料(包括聚合物和有机小分子)和金属氧化物两大类.表1总结了近年来领域内报道的代表性界面层材料及其关键参数.2004年,Huang等[16]合成了以PFN和PFN-Br为代表的聚合物电解质材料,至今仍有广泛的应用.Li课题组[17]使用PFN-Br作为中间层制备了高效率的叠层器件,器件的性能参数为:JSC=13.22 mA·cm-2,VOC=1.56 V,FF=71%,PCE=14.64%.2013年,Bazan组[18]报道了聚合物电解质CPE-K与CPEPh-Na.2015年,Heeger组[19]使用CPEPh-Na作为中间层优化叠层器件的性能,并将基底的功函增加至5.2 e V.作者提出CPEPh-Na等修饰有阴离子或阳离子基团的聚合物在基底上会产生偶极作用,可以调节基底的功函.此外V2O5、MoO3等金属氧化物,CPE、PCP-Na、PEIE等聚合物也广泛地应用于光电器件中[19~24].目前,采用空穴传输层PEDOT:PSS与电子传输层Zn O构成的中间层(PEDOT:PSS/ZnO)取得了广泛的应用,获得了若干卓越的研究成果[14,25~28].
图表编号 | XD00161640100 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2020.05.15 |
作者 | 王文璇、王建邱、郑众、侯剑辉 |
绘制单位 | 中国科学院化学研究所、中国科学院大学、中国科学院化学研究所、中国科学院化学研究所、中国科学院化学研究所、中国科学院大学 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |