《表2 不同扩散工艺下电池性能对比表》

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《硼扩散机理及工艺应用技术研究》

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对于扩散掺杂发射极的高效N型电池，取决于扩散掺杂工艺的表面峰值浓度和结深不仅对发射极电性能有较大影响[8]，而且容易在硅片表面形成富硼层，通过影响湿法刻蚀效果进而影响表面活性。因此，为提高湿法扩散工艺与电池生产线工序的匹配性，根据扩散效果和电池片性能参数进行工艺匹配性优化验证，工艺参数包括预沉积步、升温推进步、通水步和后续降温步工艺参数（温度、时间、流量）。在优化表面氧化膜厚度均匀性的条件下，升级优化并确定三种湿法再分布扩散工艺（b）、（c）、（d），和干法扩散工艺（a）进行工艺效果对比，每方阻大小均在90～100Ω，经多批次量产验证，测试结果和掺杂曲线对比如表2、图7所示。