《表1 采用不同单一和复合添加剂时的最大铜沉积电流峰值》

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《连续电解精炼阴极铜过程中添加剂的作用》

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表1显示的是加入适宜浓度的添加剂时相应的最高铜沉积电流。加入单一添加剂时，铜沉积电流峰值较空白电解液均有所增大。加入复合添加剂时，铜沉积电流峰值与采用单一添加剂时相比有所增大，但增加幅度较小。加入硫脲与PAM作为复合添加剂时更有利于阴极铜的沉积，铜沉积电流峰值最大。