《表2 主要申请人申请量一览》

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《化学机械抛光方法专利技术综述》

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从表2的国际前十申请人可以看出，排名第一的是应用材料公司，其专利数量遥遥领先，超过了第二、三名的总和，第二、三名分别是镁光科技和泛林半导体公司，这前三强显示了美国在化学机械抛光领域的绝对领先优势，从4-10名的申请人也可以看出一些其他地区的挑战者，包括来自韩国的三星电子公司、中国的中芯国际集成电路制造（上海）有限公司等。