《表4 TKX50重要生长面的溶剂可及面积和表面面积》

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《TKX-50在甲酸/水混合溶剂中生长形貌的分子动力学模拟》

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TKX?50分子的羟铵阳离子和联四唑阴离子通过强静电作用结合，不同的分子排布方式可能会导致不同的电荷分布，最终影响晶面与溶剂之间的相互作用。TKX?50各个重要晶面的分子堆积结构见图4。可以看到，在（0 2 0）晶面上有排列规则的联四唑阴离子显露。（1 0 0）晶面上联四唑阴离子环对立分布，空间位阻较大。（1 1 0）和晶面的分子堆叠相对分散，既有联四唑阴离子显露，也有少量羟铵阳离子显露，阳离子显露部位空间位阻较小。因此溶液中的溶质分子能够很容易地吸附到（1 1 0）和晶面上，导致晶面快速生长。晶面的粗糙程度会影响晶面的生长速率。粗糙晶面具有较多的生长台阶和扭结点位，容易吸附溶液中的溶质分子[26]，因此具有较快的生长速率。参数S可以用来描述晶面的粗糙程度，计算方法见公式（3）。表4列出了TKX?50不同晶面的S值。（1 1 0）和晶面的S值分别为1.45和1.35，相对其它晶面的S值更大，说明（1 1 0）和（1 1 1ˉ）晶面相对其它晶面更粗糙，在真空中生长更快。（1 0 0）晶面的S值最小，表明（1 0 0）晶面相对平坦，在真空中生长较慢。此外，由于（1 1 0）晶面的S值最大，具有最粗糙的表面特征，可以预测，（1 1 0）表面吸附点位较多，也可能会与溶剂分子产生较强的吸附作用。