《表1 三种Zr-MOF反应前后的比表面积及孔参数》

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《Zr基MOFs在大气压等离子体中稳定性的研究》

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三种结构的Zr-MOF放电处理前后的比表面积和孔参数如表1所示。由表1可知，合成的三种Zr-MOF都具有高的比表面积和小的孔径结构，其中Ui O-67的比表面积小于Ui O-66和Ui O-66-NH2，孔体积也较小，这可能是Ui O-67在洗涤过程中，骨架结构里残留有部分溶剂未洗干净，影响了其比表面积和孔体积，在XRD图中也检测到了残留溶剂的特征衍射峰。通过对比处理前后样品的比表面积，可以看出Ui O-66处理前后的比表面积由原来的996.6 m2·g-1降低至799.2 m2·g-1，减少了20%。相较于Ui O-66，Ui O-66-NH2和Ui O-67处理前后的比表面积差异较大，放电后比表面积分别减少了81%和97%。处理后Ui O-66-NH2和Ui O-67的孔体积都大幅降低，由反应前的0.248 cm3·g-1和0.554 cm3·g-1减少至0.047 cm3·g-1和0.046 cm3·g-1，这说明Ui O-66-NH2和Ui O-67在等离子体放电环境中结构并不稳定，骨架结构出现不同程度的坍塌。