《表1 不同Co2+和Ce3+浓度时所得合金膜的主含量与形貌概述》

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《低共熔溶剂中电沉积制备钴-铈合金膜》

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为了得到表面细致紧凑、内部晶粒细化的优质Co–Ce合金膜，在相同温度（80°C）、压力（常压）、沉积电位（-1.09 V）和沉积时间（20 min）的条件下，研究了Co2+、Ce3+不同浓度（均为0.01~0.05 mol/L）对合金膜形貌的影响，结果见表1。由于2种金属离子的浓度较低或钴离子浓度较高时，合金膜组成仅有金属钴，因此表1仅列出能制备出包含2种元素的合金膜时的结果。