《表7 压延铜箔核心专利主要研发技术点》
通过分析核心专利研发技术点(见表7)可以看出,压延铜箔的核心技术点主要集中在PCB用压延铜箔和铜合金压延箔的制备,用热处理法或用热加工或冷加工法改变轧制铜箔晶粒取向及物理结构,以及轧制压延铜箔的方法和设备等方面。
图表编号 | XD0014514700 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2018.10.15 |
作者 | 王艳妮、靳军宝、白光祖、吴新年、郑玉荣、王鑫 |
绘制单位 | 中国科学院兰州文献情报中心、甘肃省高级专家协会、中国科学院兰州文献情报中心、中国科学院大学、中国科学院兰州文献情报中心、中国科学院兰州文献情报中心、中国科学院兰州文献情报中心、中国科学院兰州文献情报中心、甘肃省高级专家协会 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |