《表1 纳米SiO2微粒的质量浓度对Ni-P-纳米SiO2复合镀层成分的影响》
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《纳米SiO_2微粒对Ni-P-纳米SiO_2复合镀层组织和性能的影响》
表1为纳米SiO2微粒的质量浓度对Ni-P-纳米SiO2复合镀层成分的影响。由于纳米SiO2微粒不是均匀地分布在试样表面,所以当纳米SiO2微粒的质量浓度非常低时,扫描电镜所取的点没有Si元素出现,只出现Ni和P元素。本实验中,只在纳米SiO2微粒的质量浓度为0.5g/L和1.0g/L的镀层表面检测到了Si元素。当纳米SiO2微粒的质量浓度为0.2g/L时,没有检测到Si元素。这可能是由于纳米SiO2微粒的质量浓度太低,EDS无法检测到。而在纳米SiO2微粒的质量浓度为2.0g/L和4.0g/L时没有检测到Si元素,可能是由于施镀后期镀速变慢,纳米SiO2微粒发生沉降,导致镀层表面沉积的纳米SiO2微粒非常少而无法检测到。
图表编号 | XD0014283200 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2018.05.30 |
作者 | 徐旭仲、赵丹、刘亭亭 |
绘制单位 | 华北理工大学冶金与能源学院、华北理工大学冶金与能源学院、华北理工大学冶金与能源学院 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |