《表1 MoOx样品制备条件》

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《磁控溅射法制备的MoO_x薄膜材料特性》

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本文采用ULVAC的SMD-1800V型立式磁控溅射镀膜机在玻璃基板表面沉积MoOx薄膜，本底真空度小于5.0×10-4Pa，氩气纯度为99.999 9%，购买自Air Liquid。玻璃基板购买自东旭光电科技股份有限公司，其尺寸为1 850mm×1 500mm，厚度为0.5mm。成膜工艺如表1所示，成膜温度为常温。