《表1 4种试样的不同类型晶界比例》

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《晶界工程处理对Hastelloy N合金时效后耐晶间腐蚀性能的影响》

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通过HKL Channel 5软件分析得出，固溶态NonGBE和GBE试样的低ΣCSL晶界比例分别为53.6%和80.1%；时效态NonGBEA和GBEA试样的低ΣCSL晶界比例分别为52.9%和74.8%。表1是固溶态NonGBE和GBE试样、时效态NonGBEA和GBEA试样中Σ3、Σ9和Σ27这3种特殊晶界的比例。由表1可知，固溶态试样经过晶界工程处理后，低ΣCSL晶界比例大幅度提高，其中Σ3晶界占低ΣCSL晶界比例达85%以上，因此本文探讨晶界工程处理后Σ3晶界对Hastelloy N合金时效后晶间腐蚀敏感性的影响。与固溶态NonGBE试样相比，固溶态GBE试样在再结晶时形核密度低，多重孪晶过程得到充分发展；试样中存在大量Σ3-Σ3-Σ9、Σ3-Σ9-Σ27、Σ3-Σ27-R等三叉晶界角，形成了大尺寸的“互有Σ3n（n=1，2，3，…）取向关系晶粒的团簇”显微组织[5]，团簇外围被连通的随机晶界网络包围。700℃时效100 h后，试样的晶界网络分布与固溶态试样无明显差别，说明时效处理不会改变Hastelloy N合金的晶界网络分布，这与690合金、Inconel 600合金的研究结果相似[1，9]。