《表2 不同能量质子在硼硅酸盐玻璃中的射程及射程分散》
表2为质子在硼硅酸盐玻璃中的射程及射程分散情况,随入射能量变化的情况与图3中的一致。且从表2可以看出,30~120 keV的质子在硼硅酸盐玻璃中的入射深度小于1.2μm,可见低能质子射程小,从而会对靶材料表面处的微观结构造成损伤。
图表编号 | XD00136044700 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2020.02.01 |
作者 | 李欣、赵强、郝建红、董志伟、薛碧曦 |
绘制单位 | 华北电力大学电气与电子工程学院、北京应用物理与计算数学研究所、北京应用物理与计算数学研究所、华北电力大学电气与电子工程学院、北京应用物理与计算数学研究所、华北电力大学电气与电子工程学院 |
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