《表5 研究变量两两之间协整方程及其残差项ADF检验结果》

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《中国集成电路产业专利产出与绩效的关系》

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采用EG两步检验法对于两变量进行协整检验。首先分别对lny1与lnx1、lny2与lnx2、lny3与lnx3进行协整检验，然后再对被解释变量lny0分别与解释变量lnx0、lnx1、lnx2、lnx3之间进行检验，最后再对lnz与lnx0进行协整检验，得到8个协整方程。分别对这8个回归的残差进行平稳性检验，得到如表5所示的残差项ADF检验结果，可知仅有lny2与lnx2、lny3与lnx3的协整方程残差项ADF检验在10%的显著性水平上平稳，说明变量间存在协整关系，即存在正向相关的长期均衡关系；其余6个回归的残差项ADF检验是非平稳的，不能说明其存在协整关系。通过计量分析发现：制造业的专利申请数与销售额之间存在正相关关系，专利申请量每增加1%，行业总销售额将上升1.330…1%；封测业的专利申请数与销售额之间存在正相关关系，专利申请量每增加1%，行业总销售额将上升0.556…6%。