《表1：基于光学窄带滤光片影响因素的波长优化》

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《基于光学窄带滤光片影响因素的波长优化》

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目前DWDM滤光片尤其是100G filter的生产主要是采用电子枪蒸发加射频离子源辅助技术以及磁控溅射镀膜技术为主，这两种技术各有不同，但都由于高真空状态下不同位置的材料的厚度分布不同而导致滤光片波长的不一致，由于DWDM系统对通道的波长准确性要求很高，中心波长的容差一般只有+/0.1nm，所以能够直接使用的波长范围只有0.2nm，这也成为了限制滤光片产出和成本的主要因素。本文主要研究如何有效合理的利用滤光片的相关物理特性进行设计优化，从而可以保证滤光片产品的可靠性要求，保持性能指标的前提下有效的降低滤光片的成本。