《表1 各类化学品原液质量分数表》

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《单晶硅片KOH碱刻蚀工艺研究》

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实验中，使用砂浆切割和金刚线切割的单晶硅片，外观尺寸为156 mm×156 mm，厚度为200μm，电阻率为1～3Ω·cm。该单晶硅片为市场常见硅片。电池片生产工艺采用车间量产的PERC（射极钝化及背电极）单晶生产工艺。各类化学品原液质量分数如表1所示。