《表3 反应时间对CH4Cl2Si去除率的影响》
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间歇反应采用高硼硅玻璃双层反应釜，在相同的条件下进行实验，考察了反应时间对去除率的影响，结果见表3。
| 图表编号 | XD00119796300 严禁用于非法目的 |
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| 绘制时间 | 2020.01.15 |
| 作者 | 万烨、肖劲、严大洲、刘见华 |
| 绘制单位 | 中南大学冶金与环境学院、多晶硅制备技术国家工程实验室、洛阳中硅高科技有限公司、中南大学冶金与环境学院、难冶有色金属资源高效利用国家工程实验室、多晶硅制备技术国家工程实验室、洛阳中硅高科技有限公司、多晶硅制备技术国家工程实验室、洛阳中硅高科技有限公司 |
| 更多格式 | 高清、无水印（增值服务） |
