《表2 实验物料组成：光氯化反应脱除三氯氢硅中的甲基二氯硅烷》

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《光氯化反应脱除三氯氢硅中的甲基二氯硅烷》

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图8中a、b、c分别为原料、反应物和精馏产品中CH4Cl2Si的谱峰，在最优条件下进行实验，反应物中CH4Cl2Si含量为5×10–8 g/g，去除率为99.67%，产品组成见表2。