《表1 蒙脱土分别吸附PCE、PCE+KNJ-1(KNJ-2)后的表面Si含量及吸附膜厚度》
注:*以水处理蒙脱土的光电子强度为I0计算吸附膜厚度,代入公式(2)求得蒙脱土吸附水的吸附膜厚度为0。
图8为蒙脱土经不同处理的XPS全谱图。由图8可知,经H2O、PCE、KNJ-1+PCE和KNJ-2+PCE处理后的蒙脱土表面的C 1s峰相较于水处理强度增加,Si 2p峰强度呈不同程度降低。表1为蒙脱土分别吸附PCE、PCE+KNJ-1(KNJ-2)后的表面Si含量和吸附膜厚度的计算结果。可以看出,双子季铵盐与PCE复配处理蒙脱土的吸附膜厚度均低于PCE单独处理的厚度,其中KNJ-2与PCE复配使吸附膜厚度减少了2.39 nm,降低了32%,说明双子季铵盐可以有效抑制PCE在蒙脱土表面的吸附。推断原因为合成的双子季铵盐相对分子质量小,在水中可以更快地扩散到蒙脱土表面,通过静电引力吸附在蒙脱土上,而KNJ-2由于氢键的存在,使分子之间更容易相互链接起来形成水化膜,亲水端向内疏水端向外,从而阻止蒙脱土对PCE的表面吸附。
图表编号 | XD00119794300 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2020.01.15 |
作者 | 张雪、张光华、蒋婷、王爽、张策、崔鸿跃 |
绘制单位 | 陕西科技大学陕西省轻化工助剂重点实验室、陕西科技大学陕西省轻化工助剂重点实验室、山西省运城市泓翔建材有限公司、陕西科技大学陕西省轻化工助剂重点实验室、陕西科技大学陕西省轻化工助剂重点实验室、山西省运城市泓翔建材有限公司 |
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