《表1 纳米线分段以及各段背景光波长和光强》
如表1所示,将四段纳米线采用导波注入的方式将激励光注入纳米线内部,由于对应波长光子的能量都大于纳米线段的带隙宽度,所以电子会从价带跃迁至导带,产生激励电流I1,也就是背景电流。为了研究1 550nm光子的淬灭效应在带隙渐变的硫硒化镉纳米线中的效果,分别将10-10 W的1 550nm光子注入四条纳米线段中,之后再依次注入10-9、10-8、10-7和10-6 W的1 550nm光子。在每次注入1 550nm光子后记录背景电流的减小量,该减小量与原背景电流之比即为淬灭度,通过归一化拟合统计如图5所示。
图表编号 | XD001085900 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2018.04.01 |
作者 | 刘敦伟、袁光立、安辉耀、石雪梅、于涛 |
绘制单位 | 航天科工防御技术研究试验中心、北京大学软件与微电子学院、航天科工防御技术研究试验中心、北京大学软件与微电子学院、航天科工防御技术研究试验中心、北京大学软件与微电子学院 |
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